В Китае разработали собственный фоторезист для 7-нм производств


Китайская компания Jiangsu Nata Opto завершила научно-исследовательские и опытно-конструкторские работы по созданию высокочувствительного фоторезиста для производства микросхем по 7-нанометровому технологическому процессу. Об этом сообщает cnTechPost.

Фоторезистом называют полимерный светочувствительный материал, который используется при производстве микросхем методом фотолитографии. В настоящее время китайские компании импортируют большую часть фоторезиста, причём подавляющая часть производства этого материала приходится на США и Японию.

В компании Jiangsu Nata Opto сообщили о завершении разработки собственного фоторезиста и перехода к стадии тестирования. Отмечается, что полученный фоточувствительный материал сможет использоваться при производстве микросхем с технологическими нормами от 28 до 7 нм. Производимый сейчас в Китае фоторезист может применяться только для выпуска чипов по нормам 365-нм.

Как ранее сообщало ИА REGNUM, в мае китайская компания Semiconductor Manufacturing International Corp объявила о получении инвестиций в размере $2,25 млрд из госфондов для наращивания производства интегральных микросхем на заводе в Шанхае.


Распечатать